HS目录树 | 描述 |
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Chapter 84 |
第八十四章; 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件 |
8486 品目 | 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件 |
物品描述 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)); Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品描述 |
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制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) |
HS 编码 | 商品名称 | 商品规格说明 |
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金属有机物化学气相沉淀炉 | IC CCS 19X2/生产半导体晶片用 | |
化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 | D15498A | |
化学气相沉积设备(旧) | 制作半导体专用 |